Annealing effect of methyl-boron carbon nitride film after dry etching
Annealing effect of methyl-boron carbon nitride film after dry etching
复制标题
甲基硼氮化碳薄膜干法刻蚀后的退火效果
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Takashi Sugino
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hidemitsu Aoki;Makoto Hara;Takuro Masuzumi;Zhiming Lu;Makoto Nishizaki;Chiharu Kimura;Takashi Sugino
