CH4/H2プラズマを用いた酸化グラフェンからの高結晶性グラフェン合成 ~ガス比の影響と高品質化~
CH4/H2プラズマを用いた酸化グラフェンからの高結晶性グラフェン合成 ~ガス比の影響と高品質化~
复制标题
使用CH4/H2等离子体从氧化石墨烯合成高结晶石墨烯〜气体比例和高质量的影响〜
DOI：
--
复制
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
斉木 幸一朗
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
小幡 誠司;斉木 幸一朗
