ミストCVD法によって成膜したGa2O3の結晶性評価
ミストCVD法によって成膜したGa2O3の結晶性評価
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雾气CVD法沉积Ga2O3的结晶度评价
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
西山和輝，森山裕貴，新海聡子
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Toshimasa Umezawa;Atsushi Kanno;Pham Tien Dat;Atsushi Matsumoto;Kouichi Akahane;Naokatsu Yamamoto;Tetsuya Kawanishi;西山和輝，森山裕貴，新海聡子
