Investigation of NBIS Degradation Mechanism in Oxide TFT Assisted by Charge Trap Phenomena
Investigation of NBIS Degradation Mechanism in Oxide TFT Assisted by Charge Trap Phenomena
复制标题
电荷陷阱现象辅助氧化物 TFT 中 NBIS 降解机制的研究
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yukiharu Uraoka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shunsuke Omae;Takanori Takahashi;Mutshunori Uenuma;Yukiharu Uraoka
