Kazuhiro ISHIMARU: "Characterization of Film Quality of Silicon Oxide Films by Remote Plasma CVD Using Dielectric Barrier Discharge from Tetraethylorthosilicate"Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC15). 14・V. 1787-1792 (200
Kazuhiro ISHIMARU: "Characterization of Film Quality of Silicon Oxide Films by Remote Plasma CVD Using Dielectric Barrier Discharge from Tetraethylorthosilicate"Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC15). 14・V. 1787-1792 (200
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Kazuhiro ISHIMARU：“利用原硅酸四乙酯的介电势垒放电通过远程等离子体 CVD 表征氧化硅薄膜的薄膜质量”第 15 届国际等离子体化学研讨会论文集 (ISPC15) (200)。
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