H.Saitoh, Z.Yoshida, H.Himura, J.Morikawa, M.Fukao: "Potential Structure of a Plasma in an Internal Conductor Device under the Influence of a Biased Electrode"Physics of Plasmas. (掲載予定). (2004)
H.Saitoh, Z.Yoshida, H.Himura, J.Morikawa, M.Fukao: "Potential Structure of a Plasma in an Internal Conductor Device under the Influence of a Biased Electrode"Physics of Plasmas. (掲載予定). (2004)
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H.Saitoh、Z.Yoshida、H.Himura、J.Morikawa、M.Fukao：“偏置电极影响下内部导体装置中等离子体的电位结构”（待出版）。 2004年）
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