Character-Build Standard-Cell Layout Technique for High-Throughput Character-Projection EB lithography
Character-Build Standard-Cell Layout Technique for High-Throughput Character-Projection EB lithography
复制标题
用于高通量字符投影 EB 光刻的字符构建标准单元布局技术
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Yoshikawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Fujino;Y.Kajiya;M.Yoshikawa
