MOCVD法により合成したCa_2SiO_4膜のハンクス溶液中でのアパタイト形成挙動
MOCVD法により合成したCa_2SiO_4膜のハンクス溶液中でのアパタイト形成挙動
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MOCVD法合成Ca_2SiO_4薄膜在Hanks溶液中磷灰石形成行为
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
後藤孝
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shekhar Nath、塗溶;後藤孝
