Thermally-induced formation of Si wire array on an ultrathin (111) silicon-on-insulator substrate
Thermally-induced formation of Si wire array on an ultrathin (111) silicon-on-insulator substrate
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在超薄 (111) 绝缘体硅衬底上热致形成硅线阵列
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Ono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Z.A.Burhanudin;R.Nuryadi;Y.Ishikawa;M.Tabe;Y.Ono
