窒素添加スパッタ法による高移動度アモルファス In2 O3 :Sn 薄膜の作製
窒素添加スパッタ法による高移動度アモルファス In2 O3 :Sn 薄膜の作製
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加氮溅射法制备高迁移率非晶In2O3:Sn薄膜
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
板垣奈穂
中科院分区：
文献类型：
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作者：
御堂雄大;山下大輔;奥村賢直;鎌滝晋礼;古閑一憲;白谷正治;板垣奈穂
