Y. Saito and T. Takagi: "Tungsten chemical vapor deposition on silicon and silicon dioxide with plasma excited hydrogen" Jpn. J. Appl. Phys.33. 4413-4416 (1994)
Y. Saito and T. Takagi: "Tungsten chemical vapor deposition on silicon and silicon dioxide with plasma excited hydrogen" Jpn. J. Appl. Phys.33. 4413-4416 (1994)
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Y. Saito 和 T. Takagi：“用等离子体激发氢在硅和二氧化硅上进行钨化学气相沉积”Jpn。
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