K.Sato, M.Shikida et al.: "Characterization of orientation dependent etching properties of single crystal silicon : Effects of KOH concentration" Sensors and Actuators. A64. 87-93 (1998)
K.Sato, M.Shikida et al.: "Characterization of orientation dependent etching properties of single crystal silicon : Effects of KOH concentration" Sensors and Actuators. A64. 87-93 (1998)
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K.Sato、M.Shikida 等人：“单晶硅取向相关蚀刻特性的表征：KOH 浓度的影响”传感器和执行器。
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