Takahiro YOKOYAMA, Daisuke YOSHIMURA, Eisuke ITO, Hisao ISHI, Yukio OUCHI, Kazuhiko SEKI: "Energy Level Alignment at Alq_3/LiF/Al Interfaces Studied by Electron Spectroscopies : Island Growth of LiF and Size-Dependence of the Electronic Structures"Jpn.J.A
Takahiro YOKOYAMA, Daisuke YOSHIMURA, Eisuke ITO, Hisao ISHI, Yukio OUCHI, Kazuhiko SEKI: "Energy Level Alignment at Alq_3/LiF/Al Interfaces Studied by Electron Spectroscopies : Island Growth of LiF and Size-Dependence of the Electronic Structures"Jpn.J.A
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Takahiro YOKOYAMA、Daisuke YOSHIMURA、Eisuke ITO、Hisao ISHI、Yukio OUCHI、Kazuhiko SEKI：“通过电子光谱研究的 Alq_3/LiF/Al 界面的能级对准：LiF 的岛生长和电子结构的尺寸依赖性”Jpn.J.A
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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作者：
晶体 LIF 的电离阈值
DOI：
10.1103/physrevb.60.3777
发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
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作者：
H. Tatewaki
通讯作者：
H. Tatewaki