Real time observation of O_2 adsorption on SI(111)-7x7 at 300K by use of synchrotron radiation O1s and Si2p XPS
Real time observation of O_2 adsorption on SI(111)-7x7 at 300K by use of synchrotron radiation O1s and Si2p XPS
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利用同步辐射O1s和Si2p XPS实时观察300K下SI(111)-7x7上O_2吸附
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akitaka Yoshigoe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Ogawa;A.Yoshigoe;S.Ishizuka;Y.Teraoka;Y.Takakuwa;吉越 章隆;吉越 章隆;山本 喜久;中野 卓哉;岡田 美智雄;富樫 秀晃;上浦 良文;山本 喜久;Akitaka Yoshigoe
