フェーズフィールド法によるMoSi2 基複相シリサイド基合金中の組織形成と界面偏析
フェーズフィールド法によるMoSi2 基複相シリサイド基合金中の組織形成と界面偏析
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相场法研究 MoSi2 基多相硅化物基合金的结构形成和界面偏析
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
山﨑敏広 ， 小泉雄一郎，千葉晶彦 阪大工 萩原幸司，中野貴由 京大工 弓削是貴，岸田恭輔，乾晴行
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Ishida;A. Tezuka;and T. Abe;山﨑敏広 ， 小泉雄一郎，千葉晶彦 阪大工 萩原幸司，中野貴由 京大工 弓削是貴，岸田恭輔，乾晴行
