TMGa添加ポストアニール処理によるc面サファイア基板上AlNの結晶品質改善.
TMGa添加ポストアニール処理によるc面サファイア基板上AlNの結晶品質改善.
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通过添加 TMGa 后退火处理提高 c 面蓝宝石衬底上 AlN 的晶体质量。
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
小出 康夫.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
井村 将隆;稲葉 英樹;間野 高明;石田 暢之;上杉 文彦;黒田 陽子;中山 佳子;竹口 雅樹;小出 康夫.
