Characterization of Particle Contamination in Process Steps during Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Operation
Characterization of Particle Contamination in Process Steps during Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Operation
复制标题
等离子体增强化学气相沉积操作过程步骤中颗粒污染的表征
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Okuyama
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H. Setyawan;M. Shimada;Yuji Imajo;Y. Hayashi;K. Okuyama
