Demonstration of Ferroic Behavior of Berry Curvature Dipole in a Topological Crystalline Insulator at 300 K
Demonstration of Ferroic Behavior of Berry Curvature Dipole in a Topological Crystalline Insulator at 300 K
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300 K 拓扑晶体绝缘体中贝里曲率偶极子的铁性行为演示
DOI：
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发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masashi Shiraishi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Taiki Nishijima;Takuto Watanabe;Hiroaki Sekiguchi;Yuichiro Ando;Ei Shigematsu;Ryo Ohshima;Shinji Kuroda;Masashi Shiraishi
