Fabrication, N-doping mechanism and evaluation of N-doped TiO_2 thin films based on laser ablation method
Fabrication, N-doping mechanism and evaluation of N-doped TiO_2 thin films based on laser ablation method
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基于激光烧蚀法的氮掺杂TiO_2薄膜的制备、氮掺杂机理及评价
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shouichi Somekawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
L. Yuliati;T. Hamajima;T. Hattori;H. Yoshida;Bashir Ahmmad;Tran Hoai Nam;Md.Abdulla-Al-Mamun;Md.Abdulla-Al-Mamun;Shouichi Somekawa
