Helium ion milling of HSQ covered graphene: Control of substrate swelling and imaging disorder
Helium ion milling of HSQ covered graphene: Control of substrate swelling and imaging disorder
复制标题
HSQ 覆盖石墨烯的氦离子铣削：控制基材膨胀和成像障碍
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shinichi Ogawa and Hiroshi Mizuta
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Marek Schmidt;Ahmed Hammam;Manoharan Muruganathan;Shinichi Ogawa and Hiroshi Mizuta
