Y. Takakuwa, F. Ishida, T. Kawawa: "Time evolution of interface roughness during thermal oxidation on Si(001)"Applied Surface Science. in press. (2002)
Y. Takakuwa, F. Ishida, T. Kawawa: "Time evolution of interface roughness during thermal oxidation on Si(001)"Applied Surface Science. in press. (2002)
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Y. Takakuwa、F. Ishida、T. Kawawa：“Si(001) 热氧化过程中界面粗糙度的时间演化”应用表面科学。
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