Visualization and Numerical Simulation of Rarefied Gas Flow in Vertical Low-Pressure CVD Reactors for Thin Film Formation of Semiconductors
Visualization and Numerical Simulation of Rarefied Gas Flow in Vertical Low-Pressure CVD Reactors for Thin Film Formation of Semiconductors
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用于半导体薄膜形成的立式低压 CVD 反应器中稀薄气流的可视化和数值模拟
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Morimitsu
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Sasaki;N.Saito;K.Kikuta;T.Chikahisa;Y.Hishinuma;K.Morimitsu
