M.Shimozuma: "AMORPHOUS CARBON FILM DEPOSITION ON ROOM TEMPERATURE SUBSTRATE USING LOW FREQUENCY PLASMA CVD" Proceedings of the 9th International Symposium on Plasma Chemistry. 9-III. 1462-1467 (1989)
M.Shimozuma: "AMORPHOUS CARBON FILM DEPOSITION ON ROOM TEMPERATURE SUBSTRATE USING LOW FREQUENCY PLASMA CVD" Proceedings of the 9th International Symposium on Plasma Chemistry. 9-III. 1462-1467 (1989)
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M.Shimozuma：“使用低频等离子体 CVD 在室温基底上沉积非晶碳膜”第九届国际等离子体化学研讨会论文集。
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