Development of atmospheric pressure plasma jet etching for trimming of micro-machined devices
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用于微加工器件修整的常压等离子射流蚀刻的开发
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Futoshi Iwata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takeru Tomita ;Kenta Nakazawa;Takahiro Hiraoka;Yuichi Otsuka;Kensuke Nakamura;Futoshi Iwata
