惣野崇,西川宏之,山口喬之,渡辺英紀,西原義孝,服部雅晴,藤巻真,大木義路,及川将一,神谷富裕,荒川和夫: "シリカガラスにおけるイオン注入領域のミクロ評価"第32回電気学会電気電子絶縁材料システムシンポジウム予稿集. 269-272 (2000)
惣野崇,西川宏之,山口喬之,渡辺英紀,西原義孝,服部雅晴,藤巻真,大木義路,及川将一,神谷富裕,荒川和夫: "シリカガラスにおけるイオン注入領域のミクロ評価"第32回電気学会電気電子絶縁材料システムシンポジウム予稿集. 269-272 (2000)
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Takashi Sono、Hiroyuki Nishikawa、Takayuki Yamaguchi、Hideki Watanabe、Yoshitaka Nishihara、Masaharu Hattori、Makoto Fujimaki、Yoshiji Oki、Shoichi Oikawa、Totomi Kamiya、Kazuo Arakawa：《石英玻璃中离子注入区域的微观评价》第 32 期会议论文集IEEJ 电气和电子绝缘材料系统研讨会。269-272 (2000)
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