電界制御技術を導入した高効率CMP 技術の研磨特性
電界制御技術を導入した高効率CMP 技術の研磨特性
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结合电场控制技术的高效CMP技术的抛光特性
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
池田 洋，久住孝幸，中村竜太，赤上陽一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Youn Sung-Won;Suzuki Kenta;Hiroshima Hiroshi;山口健;池田 洋，久住孝幸，中村竜太，赤上陽一
