スパッタエピタキシー法による(ZnO)X(InN)1-X膜の作製: 高温バッファー層の効果
スパッタエピタキシー法による(ZnO)X(InN)1-X膜の作製: 高温バッファー層の効果
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溅射外延法制备(ZnO)X(InN)1-X薄膜：高温缓冲层的影响
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
板垣奈穂
中科院分区：
文献类型：
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作者：
寺澤寛;金島健太郎;成重椋太;山下大輔;奥村賢直;鎌滝晋礼;古閑一憲;白谷正治;板垣奈穂
