Fabrication of nickel oxide and Ni-doped indium tin oxide thin films using pyrosol process.
Fabrication of nickel oxide and Ni-doped indium tin oxide thin films using pyrosol process.
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使用热溶胶工艺制备氧化镍和镍掺杂氧化铟锡薄膜。
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yoshio Taniguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Akihiko Nakasa;Mami Adachi;Hisanao Usami;Eiji Suzuki;Yoshio Taniguchi
