K.Furukawa et al: "Study of the effect of discharge conditions and substreate temperature on Si Epitaxial deposition ustiong sputtering-type electron cyclotron resonance plasma"J.Vac.Sci.& Tech.. 18. 873-878 (2000)
K.Furukawa et al: "Study of the effect of discharge conditions and substreate temperature on Si Epitaxial deposition ustiong sputtering-type electron cyclotron resonance plasma"J.Vac.Sci.& Tech.. 18. 873-878 (2000)
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K.Furukawa 等人：“使用溅射型电子回旋共振等离子体进行硅外延沉积的放电条件和基底温度的影响研究”J.Vac.Sci。
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