Effects of bias potential upon H- density near a plasma grid of a negative ion source
Effects of bias potential upon H- density near a plasma grid of a negative ion source
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偏压电位对负离子源等离子栅附近 H 密度的影响
DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
M.Wada
中科院分区:
文献类型:
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作者:
H.Takahashi;T.Kasuya;M.Wada
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DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
Review of Scientific Instruments 75
影响因子:
--
作者:
H.Takahashi;T.Kasuya;M.Wada
通讯作者:
M.Wada
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Review of Scientific Instruments 75
影响因子:
--
作者:
Y.Matsumoto;M.Nishiura;K.Matsuoka;M.Sasao;M.Wada;H.Yamaoka
通讯作者:
H.Yamaoka
DOI:
10.1063/1.1139978
发表时间:
1988
期刊:
影响因子:
--
作者:
M. Bacal;J. Bruneteau;P. Devynck
通讯作者:
P. Devynck
DOI:
10.1103/physreva.41.3307
发表时间:
1990
期刊:
Physical review. A, Atomic, molecular, and optical physics
影响因子:
--
作者:
Stern;Devynck;Bacal;Berlemont;Hillion
通讯作者:
Hillion