heoretical Study on the Dependence of Acid Distribution on Material Properties of Chemically Amplified Extreme Ultraviolet Resists

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酸分布对化学增强极紫外光刻胶材料性能依赖性的理论研究

DOI:
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发表时间:
2008
期刊:
Jpn. J. Appl. Phys 47巻
影响因子:
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通讯作者:
M. Shell
M. Shell
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
T. Kozawa;S. Tagawa;M. Shell

文献摘要

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