Irman IDRIS and Osamu SUGIURA: "Hydrogen-Free Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon Dioxide Using Tetra-isocyanate-silane (Si(NCO)_4)" Japanese Journal of Applied Physics. 34. L772-L774 (1995)
Irman IDRIS and Osamu SUGIURA: "Hydrogen-Free Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon Dioxide Using Tetra-isocyanate-silane (Si(NCO)_4)" Japanese Journal of Applied Physics. 34. L772-L774 (1995)
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Irman IDRIS 和 Osamu SUGIURA：“使用四异氰酸酯硅烷 (Si(NCO)_4) 进行二氧化硅的无氢等离子体增强化学气相沉积”日本应用物理学杂志。
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