A.Hatta 他: "Pulse modulated electron cyclotron resonance plasma for chemical vapor deposition of diamondo films" Appl. Phys. Lett.66. 1602-1604 (1995)
A.Hatta 他: "Pulse modulated electron cyclotron resonance plasma for chemical vapor deposition of diamondo films" Appl. Phys. Lett.66. 1602-1604 (1995)
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A.Hatta 等人：“用于金刚石薄膜化学气相沉积的脉冲调制电子回旋共振等离子体”Appl.66（1995）。
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