The influence of deposition parameters on Ti/Pt film growth by confocal sputtering and the temperature dependent resistance behavior using SiOx and Al2O3 substrates
The influence of deposition parameters on Ti/Pt film growth by confocal sputtering and the temperature dependent resistance behavior using SiOx and Al2O3 substrates
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沉积参数对共焦溅射 Ti/Pt 薄膜生长的影响以及使用 SiOx 和 Al2O3 衬底的温度依赖性电阻行为
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
U. Schinkel
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G. Schmidl;J. Dellith;E. Kessler;U. Schinkel
