Arイオンミリングを用いたPb(Zr,Ti)03薄膜断面の形成とAFMによる圧電応答評価
Arイオンミリングを用いたPb(Zr,Ti)03薄膜断面の形成とAFMによる圧電応答評価
复制标题
使用 Ar 离子铣削形成 Pb(Zr,Ti)03 薄膜横截面并使用 AFM 评估压电响应
DOI：
--
复制
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
鈴木久男
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
宮崎智史;坂元尚紀;川口昂彦;脇谷尚樹;鈴木久男
