Modeling particle growth and deposition in a tubular CVD reactor
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DOI：
10.1016/s0022-0248(99)00041-x
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发表时间：
1999-04
影响因子：
1.8
通讯作者：
Shih‐Yuan Lu;Hway-Chi Lin;Chung-Hong Lin
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shih‐Yuan Lu;Hway-Chi Lin;Chung-Hong Lin
