Fabrication and Microstructuring of Hexagonally Ordered Two‐Dimensional Nanopore Arrays in Anodic Alumina
Fabrication and Microstructuring of Hexagonally Ordered Two‐Dimensional Nanopore Arrays in Anodic Alumina
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DOI：
10.1002/(sici)1521-4095(199904)11:6
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发表时间：
1999-04
影响因子：
29.4
通讯作者：
An‐Ping Li;F. Müller;A. Birner;K. Nielsch;U. Gösele
中科院分区：
文献类型：
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作者：
An‐Ping Li;F. Müller;A. Birner;K. Nielsch;U. Gösele
用水洗涤三次，用MgSO 4干燥。除去溶剂后，在中性烷氧基树脂上对残余物进行色谱分析。首先，用戊烷洗脱未反应的化合物4和单加合物8，然后用石油醚/乙酸乙酯洗脱双加合物5。(54%，m.p.：191 C）。1H NMR（CDCl3，ppm）3.64（s，8H，CH2），4.33（dd，2H，CH），6.99（dd，2H，CH），7.14（s，8H，芳香族）; 13C NMR（CDCl3，ppm）33.72，54.79，126.37，129.22，134.8，139.74，140.72。化合物2：将化合物5（0.8g，2.64mmol）和四氯苯醌（1.28g，5.28mmol）溶解于甲苯（150 mL）中，并在回流下加热1.5小时。除去溶剂后，残余物通过色谱法（中性烷氧基/甲苯）纯化（75%，m. p.：239 C）。H NMR（CDCl3，ppm）5.33（dd，2 H，CH），7.06（dd，2 H，CH），7.37（AA <$BB <$，4 H，芳香族），7.71（AA <$BB <$，4 H，芳香族），7.73（s，4 H，芳香族）; 13 C NMR（CDCl 3，ppm）50.74，121.71，126，127.92，132.25，138.73，142.66。化合物6a：将化合物2（100 mg，0.32mmol）和2，3，4，5-四氯噻吩二氧化物（167 mg，0.64mmol）在CH 2Cl 2（4 mL）中的溶液在70 ℃和6 kbar的压力下加热3天.反应完成后，真空除去溶剂。在硅胶上用己烷/甲苯4/1作为洗脱剂对残留物进行层析。第一级分得到所需产物（75%）。该物质可以通过从二氯乙烷/乙酸乙酯中重结晶来进一步纯化。H NMR（CD2Cl2，ppm）3.54（s，2H，CH），5.13（s，2H，CH），7.45（AA <$BB <$，4 H，芳香族），7.80（s，2 H，芳香族），7.82（AA <$BB <$，4 H，芳香族），7.86（s，2 H，芳香族）; 13 C NMR（CD 2Cl 2，ppm）48.08，48.86，122.91，123.93，124.29，126.24，126.35，128.02，128.07，131.38，132.91，133.07，137.47，139.58。化合物6 b：使用对于化合物6a的合成所述的程序，以70%的产率获得化合物6 b。H NMR（CD2Cl2，ppm）3.58（s，2H，CH），5.19（s，2H，CH），7.46（AA <$BB <$，4 H，芳香族），7.82（s，2 H，芳香族），7.84（AA <$BB <$，4 H，芳香族），7.86（s，2 H，芳香族）; 13 C NMR（CD 2Cl 2，ppm）49.74，51.89，120.49，122.87，123.96，126.22，126.33，128.02，128.08，128.72，132.90，133.06，137.51，139.73。
washed three times with water, and dried over MgSO4. After removing the solvent, chromatography is carried out on the residue on neutral alox. First, unreacted compound 4 and monoadduct 8 are eluted with pentane, and then bis-adduct 5 with petrolether/ethyl acetate. (54 %, m.p.: 191 C). H NMR (CDCl3, ppm) 3.64 (s, 8 H, CH2), 4.33 (dd, 2 H, CH), 6.99 (dd, 2 H, CH), 7.14 (s, 8 H, aromatic); C NMR (CDCl3, ppm) 33.72, 54.79, 126.37, 129.22, 134.8, 139.74, 140.72. Compound 2: Compound 5 (0.8 g, 2.64 mmol) and chloranil (1.28 g, 5.28 mmol) are dissolved in toluene (150 mL), and heated for 1.5 h under reflux. After removing the solvent, the residue is purified via chromatography (neutral alox/toluene) (75 %, m.p.: 239 C). H NMR (CDCl3, ppm) 5.33 (dd, 2 H, CH), 7.06 (dd, 2 H, CH), 7.37 (AA¢BB¢, 4 H, aromatic), 7.71 (AA¢BB¢, 4 H, aromatic), 7.73(s, 4 H, aromatic); C NMR (CDCl3, ppm) 50.74, 121.71, 126, 127.92, 132.25, 138.73, 142.66. Compound 6a: A solution of compound 2 (100 mg, 0.32 mmol) and 2,3,4,5-tetrachlorothiophenedioxide (167 mg, 0.64 mmol) in CH2Cl2 (4 mL) is heated for 3 days at 70 C under a pressure of 6 kbar. After the reaction is complete, the solvent is removed under vacuum. Chromatography is carried out on the residue on silica gel with hexane/toluene 4/1 as eluent. The first fraction gives the desired product (75 %). The material can be further purified by recrystallization from dichloroethane/ethyl acetate. H NMR (CD2Cl2, ppm) 3.54 (s, 2 H, CH), 5.13 (s, 2 H, CH), 7.45 (AA¢BB¢, 4 H, aromatic), 7.80 (s, 2 H, aromatic), 7.82 (AA¢BB¢, 4 H, aromatic), 7.86 (s, 2 H, aromatic); C NMR (CD2Cl2, ppm) 48.08, 48.86, 122.91, 123.93, 124.29, 126.24, 126.35, 128.02, 128.07, 131.38, 132.91, 133.07, 137.47, 139.58. Compound 6b: Using the procedure described for the synthesis of compound 6a, compound 6b is obtained in a yield of 70 %. H NMR (CD2Cl2, ppm) 3.58 (s, 2 H, CH), 5.19 (s, 2 H, CH), 7.46 (AA¢¢BB¢, 4 H, aromatic), 7.82 (s, 2 H, aromatic), 7.84 (AA¢BB¢, 4 H, aromatic), 7.86 (s, 2 H, aromatic); C NMR (CD2Cl2, ppm) 49.74, 51.89, 120.49, 122.87, 123.96, 126.22, 126.33, 128.02, 128.08, 128.72, 132.90, 133.06, 137.51, 139.73.