Variation of carbon concentration, ion energy, and ion current density of magnetron-sputtered boron carbonitride films
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DOI：
10.1016/s0257-8972(99)00353-9
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发表时间：
1999-09
影响因子：
5.4
通讯作者：
S. Ulrich;A. Kratzsch;H. Leiste;M. Stüber;P. Schlossmacher;H. Holleck;J. Binder;D. Schild;S. Westermeyer;P. Becker;H. Oechsner
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Ulrich;A. Kratzsch;H. Leiste;M. Stüber;P. Schlossmacher;H. Holleck;J. Binder;D. Schild;S. Westermeyer;P. Becker;H. Oechsner
