M.Shimozuma: "Deposition of SiC Films on a Heated Substrate by 50Hz Plasma CVD Using Hexamethyldisilane + H_2"Proceedings of 14th Int.Symp.on Plasma Chemistry. 14III. 1415-1420 (1999)
M.Shimozuma: "Deposition of SiC Films on a Heated Substrate by 50Hz Plasma CVD Using Hexamethyldisilane + H_2"Proceedings of 14th Int.Symp.on Plasma Chemistry. 14III. 1415-1420 (1999)
复制标题
M.Shimozuma：“使用六甲基二硅烷 H_2 通过 50Hz 等离子体 CVD 在加热基板上沉积 SiC 薄膜”第 14 届 Int.Symp.on 等离子体化学论文集。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
