Kunio Okimura: "Characterization of RF Magnetron Sputtering for TiO_2 Deposition" Proc. 13th Smyp. on Plasma Processing. 195-198 (1996)
Kunio Okimura: "Characterization of RF Magnetron Sputtering for TiO_2 Deposition" Proc. 13th Smyp. on Plasma Processing. 195-198 (1996)
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Kunio Okimura：“TiO_2 沉积的射频磁控溅射特性”Proc。
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