Hydrogen Redistribution and Void Formation in Hydrogen Plasma Treated Czochralski Silicon
Hydrogen Redistribution and Void Formation in Hydrogen Plasma Treated Czochralski Silicon
复制标题
氢等离子体处理直拉硅中的氢重新分布和空隙形成
DOI：
10.4028/www.scientific.net/ssp.82-84.315
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发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Folker Herrmann
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Ulyashin;R. Job;W. Fahrner;D. Grambole;Folker Herrmann
