Topography-sensitive copper deposition in supercritical solutions

Topography-sensitive copper deposition in supercritical solutions
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超临界溶液中的形貌敏感铜沉积

DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
Microelectronics Engineering 86
影响因子:
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通讯作者:
Eiichi Kondoh
Eiichi Kondoh
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
Tomohisa HAYASHI;Ikuo SAKURADA;Kensuke HONDA;Shigeyasu;Eiichi Kondoh

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