Yasuhiko Ishikawa, Minoru Kumezawa, Ratno Nuryadi, Michiharu Tabe: "Effect of patterning on thermal agglomeration of ultrathin silicon-on-insulator layer"Applied Surface Science. vol.190. 11-15 (2002)
Yasuhiko Ishikawa, Minoru Kumezawa, Ratno Nuryadi, Michiharu Tabe: "Effect of patterning on thermal agglomeration of ultrathin silicon-on-insulator layer"Applied Surface Science. vol.190. 11-15 (2002)
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Yasuhiko Ishikawa、Minoru Kumezawa、Ratno Nuryadi、Michiharu Tabe：“图案化对超薄绝缘体上硅层热团聚的影响”应用表面科学。
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