Local atomic structure analysis of Al2O3/Diamond Interface by photoelectron holography
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光电子全息法分析 Al2O3/金刚石界面的局域原子结构
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Uraoka and T. Matsushita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masaki Tanaka;M. N. Fujii;Y. Hashimoto;M. Uenuma;S. Koga;S. Takeuchi;Z. Sun;T. Tsuno;D. Yoshii;Y. Uraoka and T. Matsushita
