しきい光電子を用いた、e-Ne, Ar, Xe衝突の高分解能全断面積測定によるFeshbach共鳴の寿命決定
しきい光電子を用いた、e-Ne, Ar, Xe衝突の高分解能全断面積測定によるFeshbach共鳴の寿命決定
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使用阈值光电子通过 e-Ne、Ar 和 Xe 碰撞的高分辨率总横截面测量来确定 Feshbach 共振的寿命
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
伊藤健二
中科院分区：
文献类型：
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作者：
豊島海士;黒川学;北島昌史;小田切丈;加藤英俊;星野正光;田中大;伊藤健二
