Hiroshi Ito and Masanori Ohyama: "Thin film growth of layered semiconductor GaSe prepared by electron beam deposition method"Journal of the vacuum society of Japan. Vol.46, No.3. 314-317 (2003)
Hiroshi Ito and Masanori Ohyama: "Thin film growth of layered semiconductor GaSe prepared by electron beam deposition method"Journal of the vacuum society of Japan. Vol.46, No.3. 314-317 (2003)
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Hiroshi Ito和Masanori Ohyama：“电子束沉积法制备的层状半导体GaSe的薄膜生长”日本真空学会杂志。
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