Hiroyuki Tanaka: "Improved Stability of Metal-Insulator-Diamond Semiconductor Interface by Employing BaFィイD22ィエD2 Insulator Film"Jpn. J. Appl. Phys.. 37. L1444-L1447 (1998)
Hiroyuki Tanaka: "Improved Stability of Metal-Insulator-Diamond Semiconductor Interface by Employing BaFィイD22ィエD2 Insulator Film"Jpn. J. Appl. Phys.. 37. L1444-L1447 (1998)
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Hiroyuki Tanaka：“采用 BaFiiD22D2 绝缘膜提高金属-绝缘体-金刚石半导体界面的稳定性”Jpn. J. Appl. 37. L1444-L1447 (1998)
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