High-speed plasma enhanced chemical vapor deposition of flurocarbon film by atmosphereic-pressure inductively coupled plasma microjet
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大气压电感耦合等离子体微射流高速等离子体增强氟碳薄膜化学气相沉积
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and T. Ichiki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Tajima;S. Tsuchiya;and T. Ichiki
