Metal-Induced Lateral Crystallization using Ni Nanoparticles for Increasing Tensile Stress in Si Thin Film
Metal-Induced Lateral Crystallization using Ni Nanoparticles for Increasing Tensile Stress in Si Thin Film
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使用镍纳米颗粒的金属诱导横向结晶增加硅薄膜的拉伸应力
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Shinya Kumagai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Naohiro Kameta;Kaname Yoshida;Mitsutoshi Masuda;Toshimi Shimizu;Shinya Kumagai
