レジオブロックコポリチオフェンの合成と解析
レジオブロックコポリチオフェンの合成と解析
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区域嵌段共聚噻吩的合成与分析
DOI：
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发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
後藤 栄祐,落合 優登,上田 充,東原 知哉
中科院分区：
文献类型：
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作者：
4)Takahashi;Y.; Ida;H.; Matsumae;Y.; Komaki;H.; Zhou;Y.; Kumatani;A.; Kanzaki;M.; Shiku;H.; Matsue;T.;後藤 栄祐,落合 優登,上田 充,東原 知哉
